在支抗釘松動或失敗的病例，頭帽是一種替代選擇。低位牽引常用于治療II類生長發(fā)育期患者的矯治，也可以用于遠中移動上頜磨牙。在非拔牙病例，接觸上頜擁擠的間隙可以通過磨牙遠中移動獲得，而下頜擁擠通過排齊過程中的切牙唇向擴展獲得。下切牙鄰面去釉能改善排齊整平，但能提供的間隙不超過0.25-0.5mm的釉質(zhì)厚度。下切牙的唇傾是II類非拔牙患者矯治的一項挑戰(zhàn)。
研究目的
調(diào)查在非生長期患者，用頭帽遠中移動上頜磨牙后下牙列的即刻變化。
研究方法
納入II類磨牙關(guān)系和牙列擁擠的16名患者（平均年齡，18.9±2.0歲），排除生長發(fā)育期患者，有缺牙或修復(fù)體的患者和拔牙矯治患者。這些患者拒絕應(yīng)用支抗釘，同意用頭帽遠中移動上頜磨牙6-9個月以糾正磨牙關(guān)系。
患者用兩步治理方案進行治療，即先進行上頜磨牙遠中移動，再用0.018-inch托槽進行固定矯治。固定矯治排齊整平在獲得足夠磨牙遠中移動后開始。患者每天戴用低位牽引頭帽12-14小時，主要在夜間。頭帽的口內(nèi)弓寬度調(diào)整到比上頜第一磨牙頰面管間距離大2mm，并與合平面平行。每側(cè)施加的力量在14-16oz。磨牙遠中移動進行到獲得I類磨牙關(guān)系。
獲得治療前（T0）和上頜磨牙遠中移動后即刻（T1）的CBCT。用CBCT生成的半頭側(cè)片（CG Cephs）和牙科模型評估牙弓的變化。在CG Cephs上繪制平行于頭位校準(zhǔn)器的X軸和垂直于X軸并通過A點的Y軸。為評估磨牙遠移后的變化，獲取以下頭側(cè)數(shù)據(jù)：Y軸到上頜第一磨牙近中牙尖間的距離，X軸與上頜第一磨牙長軸的角度，IMPA值。下牙列的變化的測量指標(biāo)包括：尖牙間寬度（ICW），前磨牙間距離（IPW），磨牙間距離（IMW）。上頜的IMW也被測量。
研究結(jié)果
戴用頭帽的平均時間為6.3個月。CG Cephs顯示，上頜第一磨牙遠中移動4.2 ± 1.6 mm，遠中傾斜9.7°± 6.1°，上頜IMW顯著增大1.3mm。下頜尖牙間、前磨牙間和磨牙間寬度在上頜磨牙后移后有增加，IMPA顯著下降。
討論
下牙弓的變化可能可以用平衡理論解釋。上磨牙的遠中移動和伸長引起口腔環(huán)境的改變，舌的位置改變，來自舌的力量可能引起下牙弓的變化。另外，由于上牙弓擴寬，下牙列可能會通過牙尖吻合隨著上頜后牙位置發(fā)生改變。下牙弓的擴寬一定程度上可解除下前牙擁擠。根據(jù)研究結(jié)果，頭帽的運用和兩步非拔牙矯治方法可能成為不想應(yīng)用骨支抗的年輕成人患者的一種選擇方案。
來源： Skywalker XY 浙一口腔正畸林軍
